वेफर्स को कैसे साफ़ करें

वेफर सफाई एकीकृत सर्किट की निर्माण प्रक्रिया के दौरान रासायनिक या भौतिक तरीकों से वेफर की सतह से दूषित पदार्थों और ऑक्साइड को हटाने की प्रक्रिया को संदर्भित करती है, ताकि वेफर सतह सफाई आवश्यकताओं को पूरा कर सके। वेफर सफाई का सिद्धांत वेफर को नुकसान पहुंचाए बिना सभी प्रकार की अशुद्धियों को दूर करना है। [6]
कण हटाने के लिए चार मुख्य तंत्र हैं: विघटन, ऑक्सीडेटिव अपघटन, कणों और सिलिकॉन वेफर सतह के बीच विद्युत प्रतिकर्षण, और सिलिकॉन वेफर सतह का मामूली क्षरण।
धातु के कणों को हटाने के लिए, वेफर सतह पर धातु की मात्रा को कम करने के लिए आमतौर पर एससी -2 समाधान या एचपीएम समाधान का उपयोग किया जाता है। उनमें से, SC-2 घोल क्रिस्टलीकृत हो जाएगा, जिससे सफाई के बाद वेफर सतह पर कणों की संख्या बढ़ सकती है। इसलिए, एचसीएल के स्थान पर एचएफ का उपयोग किया जा सकता है, या एचएफ के साथ संयुक्त ओ3 का उपयोग एससी-2 समाधान को बदलने के लिए किया जा सकता है, जो धातु के कणों को भी प्रभावी ढंग से हटा सकता है।
कार्बनिक प्रदूषकों को हटाने के लिए आमतौर पर एसपीएम समाधान या पराबैंगनी/ओजोन ड्राई क्लीनिंग तकनीक का उपयोग किया जाता है।
गीली सफाई के बाद, अगली प्रक्रिया में प्रवेश करने से पहले यह सुनिश्चित करने के लिए कि सतह पर पानी का कोई निशान नहीं है, वेफर को अच्छी तरह से सूखना चाहिए। तीन सबसे आम सुखाने के तरीके स्पिन सुखाने, मारंगोनी सुखाने और गर्म आइसोप्रोपिल अल्कोहल स्प्रे सुखाने हैं।